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单结晶体管的特性举及简单测试
Single-junction transistors

时间:2008-2-28 21:02:07 来源:本站整理 作者:李蕊 编辑: 【关闭


单结晶体管的特性举及简单测试,Single-junction transistors

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单结晶体管的特性举及简单测试
    单结晶体管是近几年发展起来的一类新型电子器件,它具有一种重要的电气性能——负阻特性,可以使自激多谐振荡器、阶梯波发生器及定时电路等多种脉冲产生单元电路的结构大为简化,故而应用十分广泛。
    图1为单结晶体管的特性检测电路。在两基极之间外加固定的正向偏压VBB,调节发射极的电压VE,根据IE与VE的变化关系,可以绘出单结晶体管的伏安特性曲线如图2。
    当VE=0时,PN结反偏截止,只有微小的反向电流IEO流过发射极,随着VE的升高,当VE=ηVBB时IE=0。VE续升高,IE将变为正向,但PN结仍未导通,故正向的漏电流也很小,在P点左侧单结晶体管处于截止区。
    VE继续升高,当VE=ηVBB+VD时,PN结由截止变为导通,这个转折点称为峰点P(VP,IP),对应的发射极电压称为峰点电压VP(VP=ηVBB+VD),发射极电流称为峰点电流IP。IP代表了使单结晶体管导通所需的最小电流。PN结导通后,P区的空穴大量注入N区,使E与B1之间的空穴浓度增加,导电性能增强,RB1的阻值减小,随着IE的增加,VE逐渐减小,单结晶体管呈现出明显的负阻特性。从P到V这一段为单结晶体管特性的负阻区。   
  随空穴的注入量达到一定程度,E与B1之间的基区由电中性转变为正电性,给空穴的进一步注入增加了阻力,相当于RB1不再下降,反而增大了,这个转折点称为谷点V(VV,Iv)此后,VE将随IE的增加而缓慢增加,单结晶体管进入饱和区。谷点电压是维持单结晶体管导通的最小发射极电压,VE
    1.单结晶体管极间电阻的测试
    发射极开路时,极间电阻RBB基本上是一个常数,用万用表的Rx1k或Rx100挡测量即可,国产的单结晶体管的RBB值在3~10kΩ范围内。测量发射极和两基极间的正向电阻,用万用表的电阻挡,黑表笔接发射极,红表笔分别接两基极即可。测量发射极和两基极间的反向电阻,同样把万用表调到电阻挡,红表笔接发射极,黑表笔分别接两基极,由于单结晶体管反向电流非常小,所以测得结果应为∞,否则证明管子质量不好。
    2.单结晶体管负阻特性的检测
    用万用表的Rx1或Rx100挡,黑表笔接发射极,红表笔接第一基极,这就相当于在发射极和第一基极之间加上了一个固定的1.5V的电压VE,在第二基极与第一基极之间外加+4.5V电源,万用表指示应为∞,表示单结晶体管性能良好。若指针发生偏转,表示管子无负阻特性或分压比值太低,不能正常使用。
 


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